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熱門(mén)關(guān)鍵詞： 測(cè)角儀，應(yīng)力雙折射，折射率，薄膜弱吸收，反射率，GDD檢測(cè)設(shè)備，波片相位延遲，剪切
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當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 應(yīng)力儀 > 應(yīng)力雙折射Exicor-OIA
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該系統(tǒng)利用PEM調(diào)制光束的偏振狀態(tài)、先進(jìn)探測(cè)和解調(diào)電子來(lái)測(cè)量光學(xué)如何改變偏振狀態(tài)。這就導(dǎo)致了一個(gè)偏振狀態(tài)相對(duì)于另一個(gè)偏振狀態(tài)的光延遲測(cè)量結(jié)果是90°。利用這些數(shù)據(jù)可以對(duì)雙折射、快速軸向和理論殘余應(yīng)力測(cè)量進(jìn)行評(píng)估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產(chǎn)中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技術(shù)被用于評(píng)估光學(xué)雙折射
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