熱門關(guān)鍵詞: 測角儀,應(yīng)力雙折射,折射率,薄膜弱吸收,反射率,GDD檢測設(shè)備,波片相位延遲,剪切
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簡要描述:Hinds Instruments 的ExicorOIA 是透鏡、平行面光學(xué)、曲面光學(xué)在正常和斜入角度評估的主要應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)。該系統(tǒng)是建立在Hinds lnsrtuments 光彈調(diào)制器( PEM)基于Exicor®雙折射測量技術(shù)。新一代的雙折射測量系統(tǒng)為該行業(yè)提供了分析和開發(fā)下一代光刻透鏡、透鏡毛坯和高價(jià)值精密光學(xué)的新能力。
詳細(xì)介紹
Hinds Instruments 的ExicorOIA 是透鏡、平行面光學(xué)、曲面光學(xué)在正常和斜入角度評估的主要應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)。該系統(tǒng)是建立在Hinds lnsrtuments光彈調(diào)制器( PEM)基于Exicor®雙折射測量技術(shù)。新一代的雙折射測量系統(tǒng)為該行業(yè)提供了分析和開發(fā)下一代光刻透鏡、透鏡毛坯和高價(jià)值精密光學(xué)的新能力。
該系統(tǒng)利用PEM調(diào)制光束的偏振狀態(tài)、先進(jìn)探測和解調(diào)電子來測量光學(xué)如何改變偏振狀態(tài)。這就導(dǎo)致了一個(gè)偏振狀態(tài)相對于另一個(gè)偏振狀態(tài)的光延遲測量結(jié)果是90。。利用這些數(shù)據(jù)可以對雙折射、快速軸向和理論殘余應(yīng)力進(jìn)行評估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產(chǎn)中, Hinds Instruments的Exicor斜入射角技術(shù)被用于評估光學(xué)應(yīng)力雙折射。
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